【背景及概况】

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四氢化硅是一种常见的工业原料，是提供硅组分的重要气体源，可用于制造高纯度单晶硅、多晶硅、异质硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅等各种硅化物。四氢化硅在过渡温度 17 K（热力学温度单位）和极高的压力下（96 和 120 GPa）可作为超导体使用。由于四氢化硅的高纯度和能实现精细控制，已经成为许多其他硅源无法取代的重要特种气体。四氢化硅目前在电子工业、能源工业、玻璃工业、化学工业及高科技领域等多个行业中均被大量使用。既往研究显示四氢化硅的主要毒性是刺激作用，有研究显示它可对皮肤、眼睛和呼吸道产生强烈刺激作用，造成对作业人员的健康危害，但是，目前我国尚未制定工作场所空气中四氢化硅的职业接触限值和检测方法。为保护工人健康和预防职业危害，制订工作场所空气中四氢化硅的职业接触限值十分重要。

【理化性质】

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四氢化硅（silicon tetrahydride，Monosilane，Silane，SiH

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），又名硅烷、甲硅烷，常温常压下为无色、易燃、有臭味的有毒气体。CAS No：7803-62-5，分子式 SiH4，分子量 32.12，101.3KPa 下沸点-112℃ 、溶点-184.7℃，液体密度 （-185℃）711 kg/m

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，气体密度（0℃，101.3 k Pa）1.44 kg/m

3

，21.1℃ 和101.3 KPa下相对密度 1.2 kg/m

3

、临界温度-3.4℃ 、临界压力4.842 MPa、临界密度247 kg/m

3

、比容 0.749 m

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/kg，-122.2℃ 下的蒸发潜热 38. 6 kJ/( kg·K，四氢化硅不溶于水，但在碱性条件下可水解，也不溶于乙醇、乙醚、苯、氯仿等有机溶剂。在空气中，四氢化硅的燃烧范围为1.37%～96% 。当其浓度在 1.37%～4.5% 时，遇火源可以燃烧，空气中的四氢化硅浓度高于 4.5% 时，处于亚稳定状态，会....