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光稳定剂于有机图层的光稳定化

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光稳定剂于有机图层的光稳定化


涂层光老化过程的发生需要存在几个关键因素,首先要求涂层中存在能够吸收太阳光紫外线的组分或结构。其次是光老化过程常伴随着光氧化反应的进行,其中单线态氧、臭氧以及基态氧的存在是该过程发生的关键;烷基过氧化氢、自由基(包括过氧自由基)是光氧化、光降解得以持续进行的重要环节。针对这些老化因素,通过添加不同功能助剂来抑制或阻断这些步骤,可大大缓解高分子涂层的光老化进程。这种有助于提高涂层抗光老化性能的助剂称为光稳定剂。

 能做为光稳定剂应当满足下列基本要求:

 1、

光稳定剂

应具有足够的效能来抑制或延缓聚合物材料的光老化进程;

 2、

光稳定剂....


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